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集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于

1、集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于： 。

A、元器件的组成部分（如栅氧化层）

B、源漏极

C、互连层间绝缘介质

D、作为掩蔽膜

答案：B

2、 以下对集成电路版图设计中几何设计规则描述不正确的是： 。

A、几何设计规则是版图图形编辑的依据

B、几何设计规则是设计系统生成版图的依据

C、几何设计规则是分析计算的依据

D、几何设计规则是检查版图错误的依据

答案：C