招生考试网

 以下是物理气相沉积工艺的是

1、 以下是物理气相沉积工艺的是 。

A、真空蒸发

B、LPCVD

C、PECVD

D、MOCVD

答案：A

2、 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是 。

A、设备简单，操作容易

B、所制备的薄膜纯度较高，厚度控制较精确，成膜速率快

C、生长机理简单

D、工艺重复性不够理想

答案：D