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世界第一块集成电路发明者

1、 世界第一块集成电路发明者： 。

A、基尔比

B、摩尔

C、张忠谋

D、胡正明

答案：A

2、 以下不是化学气相沉积工艺所成薄膜质量指标的是 。

A、台阶覆盖特性

B、薄膜致密性

C、薄膜厚度均匀性

D、薄膜宽度

答案：D