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以下不是光刻系统的主要指标的是

1、 以下不是光刻系统的主要指标的是： 。

A、分辨率

B、晶圆直径

C、焦深

D、对比度

答案：B

2、以下不是集成电路制造工艺中离子注入用途的是 。

A、MOS器件源漏精确掺杂

B、形成浅结

C、调节MOS器件阈值电压

D、形成互连

答案：D