招生考试网

以下不是集成电路制造工艺特点的是

1、以下不是集成电路制造工艺特点的是：

A、超净

B、高精度

C、低精度

D、超纯

答案：C

2、集成电路制造工艺中对刻蚀的要求包括：能得到想要的形状(斜面还是垂直图形)；过腐蚀最小(一般要求过腐蚀10％，以保证整片刻蚀完全)； ；均匀性和重复性好；表面损伤小和清洁、经济、安全等。

A、各向异性好

B、选择性好

C、各向同性好

D、刻蚀速率快

答案：B